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吴德馨在20世纪70年代末研究成功MOS4K位动态随机存储器。在国内首先将正性胶光刻和干法刻蚀等技术用于大规模集成电路的研制，并进行了提高成品率的研究。首先在国内突破了LSI低下的局面。随后又相继研究成功16K位和64K位动态随机存储器。开发成功双层多晶硅和差值氧化工艺，独创了检测腐蚀接触孔质量的露点法。

随后，吴德馨在20世纪80年代末期自主开发成功3微米CMOSLSI全套工艺技术，用于专用电路的制造。研制成功多种专用集成电路并研究开发成功VDMOS系列功率场效应器件和砷化嫁异质结高电子迁移率晶体管。20世纪90年代研究成功0.8微米CMOSLSI工艺技术，和0.1微米T型栅GaAsPHEMT器件。

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178仇岚策n
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187****8626 回复 184****1963：中乒赛-国乒包揽全部5金马龙男单封王丁宁惜败王曼昱来自滨州
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8272巩辰军20
欧盟与澳大利亚达成自由贸易协定以抵挡美国关税政策的影响
2026/04/08 推荐
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158****6607 回复仅此而已：复星医药董事会通过2025年报、利润分配及多项融资授权议案来自抚州
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362关震婵pm
境外间谍用激光隔空窃听
2026/04/07 不推荐
傅哲绍in：佩帅：三大外援发挥出色崔康熙：回主场定赢苏宁
186****2885 回复 159****3265：7018米！中国科学家又迎来历史性突破